Вступить в каталог
КОД ПРОДУКЦИИ ПО ТН ВЭД ЕАЭС
845610
Станки для обработки любых материалов, работающие с использованием процессов лазерного или другого светового или фотонного излучения
HTF Clean
Описание
Лазерные технологические установки серия HTF CLEAN предназначены для выполнения операций по лазерной очистке поверхности. Благодаря импульсному лазерному излучению, установка деликатно удаляет окалину, ржавчину, краску, следы нефтепродуктов и многие другие виды загрязнений без повреждения самой поверхности. Когда мощности лазерного излучения достаточно для того, чтобы "разогреть" загрязнение до температуры кипения, в области обработки начинается испарение удаляемого материала. Под давлением разогретых до высоких температур паров слой неметаллического загрязнения разрушается и удаляется с поверхности. Данная технология позволяет производить очистку любых поверхностей. Например, очистка памятников или удаление граффити.