Die Anlage Irida D21A ermöglicht das Aufbringen von Beschichtungen auf einem Substrat mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm durch Magnetron-Sputtern von Targets aus elektrisch leitenden sowie dielektrischen Materialien bei Verwendung von Hochfrequenz-Stromversorgungen. Es wird der reaktive Sprühmodus unterstützt.